物理氣相沉積法和化學(xué)氣相沉積法的優(yōu)劣勢(shì)有哪些
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簡(jiǎn)述熒光屏表面蒸鍍鋁膜的方式有哪些? 1、熒光屏表面蒸鍍鋁膜的方式主要有兩種:物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)。 物理氣相沉積(PVD):這是一種在真空環(huán)...
簡(jiǎn)述熒光屏表面蒸鍍鋁膜的方式有哪些?
1、熒光屏表面蒸鍍鋁膜的方式主要有兩種:物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)。 物理氣相沉積(PVD):這是一種在真空環(huán)境下進(jìn)行的方法,通過將鋁加熱到高溫使其蒸發(fā),然后冷卻使鋁原子在熒光屏表面凝結(jié),形成鋁膜。這種方式通??梢缘玫捷^厚、質(zhì)量較好的鋁膜,但設(shè)備成本較高。
2、熒光屏是顯像管的關(guān)鍵部分,它要求發(fā)光性能優(yōu)異,如亮度高、光譜適宜人眼、圖像清晰等。熒光粉的種類和厚度對(duì)亮度有直接影響,通過沉積法,通常采用混合或單一白色熒光粉。在熒光粉表面鍍鋁膜,可以提高亮度、對(duì)比度和防止離子斑的產(chǎn)生。
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